Miaoju Chuang
材料科学技术（英）
This study investigates the influence of the radio frequency (rf) power and working pressure on the properties of indium tin oxide (ITO) thin films, which were prepared by long-throw rf magnetron sputtering technique at room temperature. For 200 nm thick ITO films grown at room temperature in pure argon pressure of 0.27 Pa and sputtering power of 40 W, sheet resistant was 26.6 Ω/sq, and transmittance was higher than 90% (at wavelength 500 nm). An X-ray diffraction analysis of the samples deposited at room temperature reveal a structural change from amorphous to mixed amorphous/polycrystalline structure at (222) and (400) texture with increasing rf power. The surface composition of ITO films was characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Oxygen atoms in both amorphous and crystalline ITO structures were observed from O 1s XPS spectra
关键词:
Indium tin oxide (ITO)
,
rf magnetron sputtering
,
X-ray photoelectron spectroscopy
,
X-ray diffraction
宋睿丰
,
余怀之
,
霍承松
无机材料学报
采用红外、紫外光谱仪对热等静压（HIP）处理前后CVDZnS的光学透过率进行了测量,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVDZnS和经热等静压（HIP）处理的CVDZnS的显微组织和晶体结构进行了分析.根据热等静压（HIP）处理前后CVDZnS光学透过率和材料内部显微结构的不同分析了热等静压过程造成CVDZnS光学性能提高的原因.研究表明:热等静压过程使得CVDZnS的晶粒尺寸有了很大提高,并且消除了原生CVDZnS在生长过程中形成的晶体缺陷,从而减小了原生CVDZnS中由于晶格缺陷和晶粒边界造成的散射损失,使得CVDZnS的光学透过率,尤其是在可见光及近红外波段,有了较大的提高.
关键词:
CVDZnS
,
heat isostatic process（HIP）
,
transmittance
,
X-ray diffraction
孙广
,
吴庆华1
,
胡前库
,
于栋利
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.01067
采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料, 金属钠为还原剂, 通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物. 利用X射线衍射(XRD), 透射电子显微镜(TEM), 选区电子衍射(SAED), 电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征. 分析结果表明, 所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构, 其成分为B0.5C0.07N0.43.
关键词:
六方B-C-N化合物
,
chemical reduction synthesis method
,
X-ray diffraction
,
electron energy loss spectroscopy
涂建华
,
张利波
,
彭金辉
,
普靖中
,
张世敏
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00986
采用X射线衍射和激光喇曼光谱, 研究了以烟杆和酚醛树脂为原料制备木质陶瓷炭化过程中结构的变化特征. 研究结果表明, 炭化温度的升高可以使木质陶瓷XRD谱图中衍射峰增加, 强度增大, 同时木质陶瓷中石墨微晶的平均层间距d002减小, 堆积厚度L c增加, 微晶直径 L a在973K出现转折点; 木质陶瓷的喇曼光谱图为典型的类石墨炭材料的喇曼谱图, 只出现了表征无序结构的D线和表征石墨结构的G线, 且表征无序化度的二者积分强度比R值随炭化温度的升高先增后减, 而根据Tuinstra-Koenig 经验式计算得到的微晶直径L a值表现出与R值相反的规律; 两种分析方法的结果较为一致, 均表明木质陶瓷结构在973K发生根本改变, 说明喇曼光谱有望成为木质陶瓷结构的快速测试方法.
关键词:
木质陶瓷
,
structure
,
X-ray diffraction
,
Raman spectroscopy
张熙贵
,
张建
,
杨传铮
,
李佳
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00008
在分析R3m(No.166)中3a位和3b位原子对各（hkl）晶面结构因子的贡献时发现, 它们有相加和相减关系. 成相加关系的衍射线强度与混合占位参数X无关, 而为相减关系的衍射线强度随混合占位参数X明显变化. 因此, 提出用相加和相减两线条的衍射积分强度比的新方法来研究这类材料中Li、Ni的晶体学占位问题. 获得 (I003/I104)1/2、(I101/I012)1/2、(I101/I104)1/2与混合占位参数X均为线性关系. 反之, 由实验测得实际样品的衍射积分强度比(I003/I104)1/2、(I101/I012)1/2、(I101/I104)1/2, 用线性关系计算求得对应的混合占位参数X.
关键词:
锂离子电池
,
Li(NiuCovMn1-u-v)O2
,
atomic mixing occupation
,
X-ray diffraction
张红鹰
,
吴师岗
,
杜健
硅酸盐通报
用电子束蒸发方法沉积HfO2薄膜,用X射线衍射和透射光谱测定HfO2薄膜的结构特征和光学性能,并测定薄膜的弱吸收和损伤阈值.结果表明:HfO2薄膜在沉积温度为350℃时,达到了较好的结晶程度.在可见光和近红外光区具有很高的透过率;HfO2薄膜的损伤阈值比较高,达到10.5 J/cm2.
关键词:
HfO2薄膜
,
X射线衍射
,
透射光谱
,
薄膜结构
,
光学性能
李思诺
,
周宏勇
,
何彦刚
,
刘兵
,
刘建伟
,
王家喜
高分子材料科学与工程
以壳聚糖(CS)、亚磷酸和多聚甲醛为原料,制备N-亚甲基磷酸化壳聚糖(NPCS).利用红外光谱和核磁共振波谱表征其结构.CS和NPCS膜对Ca2+的络合性能表明,磷酸化改性的NPCS膜对Ca2+的络合能力大大提高,钙离子的行为与pH有关,络合量随pH值增加而增加,在pH为10时的络合过程符合一级动力学.X射线衍射分析表明磷酸化壳聚糖的结晶度下降,膦改性壳聚糖与Ca2+络合后结晶度提高.原子力显微镜和扫描电镜分析表明,NPCS膜表面较粗糙,有一些圆柱状突起,经钙化后NPCS膜的表面趋于平滑细腻,出现一定螺旋结构的树枝状网络突起,深度为275 nm,螺旋条纹间距约为200～400nm,这种螺旋状的枝权网络突起纵横交错在一起形成更厚更致密的覆盖层,使NPCS膜的表面平坦化.
关键词:
壳聚糖
,
N-亚甲基磷酸化壳聚糖
,
络合
,
X射线衍射
,
原子力显微镜
